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  原理：吸附在工作台上的单晶硅片和杯型金刚石砂轮绕各自轴线旋转，砂轮同时沿轴向连续进给。砂轮直径大于被加工硅片直径，其圆周经过硅片中心。

  优点：单次单片磨削，可加工大尺寸硅片；磨削力相对来说比较稳定，通过调整砂轮转轴和硅片转轴之间的倾角可实现单晶硅片面型的主动控制，获得较好的面型精度。

  原理：两侧面对称分布的夹持器将单晶硅片夹持在保持环中，在辊子的带动下缓慢旋转，一对杯型金刚石砂轮相对位于单晶硅片的两侧，在空气轴承电主轴驱动下沿相反的方向旋转并沿轴向进给实现单晶硅片的双面同时磨削。

  通过合理设置磨削工艺参数，如正向压力、砂轮粒度、砂轮结合剂、砂轮转速、硅片转速、磨削液黏度及流量等，能更加进一步降低晶圆TTV。这些参数的优化应该要依据具体的磨削设备和晶圆材料来调整。

  方法：利用激光位移传感器对晶圆进行平坦度测量，并将测量数据传入PLC控制器。通过数据比较和平均值计算，当数据的平均值大于或等于预设值时，重复研磨加工步骤；当数据的平均值小于预设值时，进行下一步操作。

  优点：能快速测量并进行平坦度计算，节省了手动频繁操作的工序，检测速度快，提升了加工的效率。

  原理：在磨削过程中，通过非接触式在线测量装置扫描晶圆，获得晶圆的厚度偏差TTV值以及晶圆厚度高低的具置。根据具体厚度参数，进行有关函数计算，通过自动控制装置进行角度调整。

  确保设备精度：磨削设备的精度对晶圆TTV有直接影响。因此，需要定期对设备做维护和校准，确保其精度满足要求。

  选择合适的磨料：磨料的选择对磨削效果和晶圆TTV也有重要影响。应该要依据晶圆材料和磨削要求选择正真适合的磨料。

  控制磨削液温度：磨削液温度对磨削效果和晶圆表面上的质量有影响。需要控制磨削液温度在合适的范围内，以确保磨削效果和晶圆表面质量。

  综上所述，降低晶圆TTV的磨片加工方法需要从磨削技术、工艺参数、自动化与智能化控制以及设备维护等多个角度入手。通过综合应用这一些方法，可以明显提高晶圆的厚度均匀性，降低TTV值。

  高通量晶圆测厚系统，全新采用的第三代可调谐扫频激光技术，传统上下双探头对射扫描方式，可兼容2英寸到12英寸方片和圆片，一次性测量所有平面度及厚度参数。

  1,灵活适用更复杂的材料，从轻掺到重掺 P 型硅 (P++)，碳化硅，蓝宝石，玻璃，铌酸锂等晶圆材料。

  粗糙的晶圆表面，（点扫描的第三代扫频激光，相比靠光谱探测方案，不易受到光谱中相邻单位的串扰噪声影响，因而对测量粗糙表面晶圆）

  低反射的碳化硅(SiC)和铌酸锂(LiNbO3)；（通过对偏振效应的补偿，加强对低反射晶圆表面测量的信噪比）

  绝缘体上硅（SOI)和MEMS，可同时测量多 层 结 构，厚 度 可 从μm级到数百μm 级不等。

  1，可调谐扫频激光的“温漂”解决能力，体现在极端工作环境中抗干扰能力强，一改过去传统晶圆测量对于“主动式减震平台”的重度依赖，成本明显降低。